تخطي إلى المحتوى
MyTheses
تغذية راجعة
سلة الكتب:
0
مواد
(ممتلئ)
HOME
MYTHESES
BLOG
AI ASSISTANT
INSTITUTION
GUIDE & TUTORIAL
CONTACT
اللغة
English
Français
日本語
中文(简体)
中文(繁體)
اللغة العربية
हिंदी
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
Nitriding of titanium by induc...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
أضف إلى سلة الكتب
حذف من سلة الكتب
رابط دائم
Nitriding of titanium by inductively coupled plasma / Abdul Hakim Hashim.
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي:
Hashim, Abdul Hakim
التنسيق:
أطروحة
منشور في:
2002
الموضوعات:
QC Physics
المقتنيات
الوصف
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
مواد مشابهة
Inductively Coupled Plasma Etching On Gan
حسب: Rosli, Siti Azlina
منشور في: (2010)
Diamondlike carbon thin film deposition using a RF planar coil inductively coupled plasma system / Liew Wai Soon
حسب: Liew, Wai Soon
منشور في: (2001)
Syntheses and characterizations of cullet-clay-titanium nitride ceramics
حسب: Mohd. Sayadi, Shakina Harith
منشور في: (2021)
Optimization of inductively coupled plasma dry etching for planar waveguide fabrication / Lim Weng Hong
حسب: Lim, Weng Hong
منشور في: (2010)
Characterization of an inductively coupled plasma produced in argon at 13.56 MHz / Lim Ai Nuan
حسب: Lim, Ai Nuan
منشور في: (2010)