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शिकागो शैली (17वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रLee,, Kang Hai. The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology [QC702.7.I55 L478 2006 F Rb]. 2006.
एमएलए (9वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रLee,, Kang Hai. The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology [QC702.7.I55 L478 2006 F Rb]. 2006.
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