Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].
Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.
| मुख्य लेखक: | |
|---|---|
| स्वरूप: | थीसिस |
| भाषा: | अंग्रेज़ी |
| प्रकाशित: |
2008
|
| विषय: | |
| ऑनलाइन पहुंच: | http://eprints.usm.my/8960/ |