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Effects of chemical mechanical polishing (CMP) parameters on NIP/AL substrate surface characteristics

Also available in printed version : TJ1280 M645 2014 raf

書目詳細資料
主要作者: Mohd. Aidil Rosli
其他作者: Noordin Mohd. Yusof, supervisor
格式: Master's thesis
語言:英语
出版: Universiti Teknologi Malaysia 2025
主題:
Grinding and polishing
Chemical mechanical planarization
在線閱讀:https://utmik.utm.my/handle/123456789/114358
Abstract Abstract here
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