Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].

Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.

Détails bibliographiques
Auteur principal: Mohd Yusoff, Mohd Zaki
Format: Thèse
Langue:anglais
Publié: 2008
Sujets:
Accès en ligne:http://eprints.usm.my/8960/